UV光触媒排气体净化机的性能优势第一、有效恶臭去除:可以有效去除挥发性有机物(VOC
)、无机物、硫化氢、阿摩尼亚、硫醇类等主要污染物,除臭效率zui达到99%以上,除臭效果于国家1993年公布的恶臭污染物排放标准(GB14554-93
)和1996年公布无需添加物质:设置相应的排气管和排气动力,用本设备除臭、分解净化恶臭/工业废气,无需添加参与化学反应的物质;
UV光分解净化设备适应性强: THY-系列产业排瓦斯气体(产业排瓦斯气体) UV光催化剂排气体净化设备能适应高浓度、大气量、不同产业排瓦斯气体物质的除臭、净化处理,能每天连续工作2.4时间,运行稳定; 营运成本低: THY-系列产业排瓦斯气体(产业排瓦斯气体) UV高效光解排气体净化设备无机械运动,无噪声,无需管理者或日常维护,只需进行定期检查,本设备能耗低,设备风阻极低<50pa,大量排气适用于UV光催化排气气体净化器占地面积小、自重轻:紧凑、占地狭窄等特殊条件,处理设备占地面积<1平方米10000m3/h风量;
这几年,环境保护一直是一个热门话题。
随着半导体工厂的发展,废气污染也越来越严重,半导体工厂的VOCs废气处理设备是如何处理的呢?
半导体工厂的废气在处理中采用水洗、氧化/燃烧、吸附、解离、冷凝等方法。 根据废气的排出,可以分为普通废气(GEX )、酸性废气(SEX
)、碱性废气(AEX )、有机废气(VEX )。 对不同的污染物采用不同的处理方法。
1.1一般排气系统:半导体工厂的一般排气(GEX
)系统在运转中也被称为热排气系统,在生产中有些设备局部产生大量的热,或者产生影响高洁净度生产环境的含尘无害气体。
1.3有机废气处理系统:含有半导体制造过程中排出的有机成分的废气(voc )通常通过直接焚烧、活性炭吸附、生物氧化等方法处理,但直接焚烧低浓度大风量的有机废气会引起大量燃料消耗和不必要的污染,高浓度活性炭吸附的方法从其材料特性来看,具有容易燃烧、水分灵敏度高、解吸后的残留负荷高等缺点,在半导体制造界几乎不使用。 生物氧化技术作为比较新的处理技术在处理大风量方面有待进一步的研究和发展。
【喷漆房废气概要】随着经济的发展,喷漆行业在各行业的应用也越来越广泛,被应用于家具、电子、汽车、塑料、竹木制品加工、机械生产加工等领域。 喷漆过程中产生的废气污染了空气,废气一般是挥发性有机化合物。 其次,介绍喷漆房废气处理设备。
喷漆废气成分:喷漆房的废气成分主要是VOCs有机废气,烃类(甲苯、二甲苯等)、烃类(烷烃、环烷烃、烯烃等)、醇类、醛类、酮类(甲基异丁基酮)
排放标准:根据国家环境保护规定,废气执行二次标准,参照《大气污染物综合排放标准》 (GB16297-1996 )、《恶臭污染物排放标准》
(GB14554-93 )的规定,废气排放标准如下表所示
【喷漆废气处理工艺】工艺因涂料而异,产生的废气成分也不同。
不同的废气有不同的废气处理技术。 接下来,用小编介绍喷雾塔UV光氧催化剂排气处理工艺。
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